直流冷陰極二極管型，靶材為常溫，負(fù)高壓1-3kv，陽極接地。當(dāng)高壓打開時(shí)，陰極發(fā)射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空(3-10pA)中的氣體使其電離。激發(fā)的電子在電場中加速，并繼續(xù)轟擊氣體以產(chǎn)生級聯(lián)電離，形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶。
當(dāng)它們的能量高于目標(biāo)原子的結(jié)合能時(shí)，目標(biāo)原子或原子簇脫離目標(biāo)并與等離子體中的殘余氣體碰撞。因此，它們有不同的方向。當(dāng)它們落在樣品表面上時(shí)，它們可以在粗糙的樣品表面上形成厚度均勻的金屬膜，并且與樣品具有高的結(jié)合強(qiáng)度。如果腔室中的氣體繼續(xù)流動并且壓力保持恒定，則此時(shí)的離子電流保持恒定。高壓的功率決定了最大離子電流，其通常被限制以保護(hù)高壓電源。
離子濺射儀的系統(tǒng)特點(diǎn)：
1、內(nèi)置過電流和真空保護(hù)，當(dāng)濺射電流過高或真空度差時(shí)自動中斷，非常可靠和安全。
2、微調(diào)閥的靈敏度相當(dāng)高，可以精確控制氣體流量。
3、目標(biāo)組件采用翻蓋式設(shè)計(jì)，操作簡單方便。
4、內(nèi)置用戶指南和手冊，用戶操作非常方便。
5、離子濺射儀采用微處理器控制。它具有非常高的自動化程度，可以精確控制，并且易于操作。
6、5英寸彩色觸摸屏可實(shí)時(shí)顯示真空度、濺射電流、設(shè)定濺射時(shí)間、剩余濺射時(shí)間、膜厚估算等。
7、可濺射金、銀、銅、鉑等常見靶材。
8、可以實(shí)時(shí)顯示設(shè)備的運(yùn)行時(shí)間和目標(biāo)的使用時(shí)間，使設(shè)備更容易理解。
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